TECHNOLOGIA PVD

Nanoszenie na produkty warstw twardych PVD
o dużej odporności na ścieranie

Efektywnym sposobem zwiększania trwałości produktów jest nanoszenie na nie warstw twardych. Najczęściej stosowana jest w tym celu metoda PVD (Physical Vapour Deposition), polegająca na fizycznym osadzaniu cienkich warstw z fazy gazowej. Uzyskiwana warstwa o grubości zwykle rzędu 3÷5 µm posiadając bardzo dużą twardość, najczęściej w granicach 2000÷3000 HV, znacznie zwiększa odporność na zużycie ścierne.
                 5 lat gwarancji na powłokę.
Nanoszenie warstw twardych PVD pozwala zwiększyć trwałość produktu na katastroficzne uszkodzenia typu zatarcia, wykruszenia itp.

Wiąże się to z bardzo dużą odpornością na ścieranie oraz wysoką i równomierną twardością powierzchni roboczych produktów, a w związku z tym znacznym wzrostem trwałości (zwykle, co najmniej dwukrotnym, a czasem nawet pięciokrotnym) oraz zmniejszeniem kosztów produkcji.

OPIS TECHNICZNY
Stosowana łukowo plazmowa metoda nanoszenia warstw twardych
(Reactive Arc Ion Plating) pozwala na otrzymywanie warstw o korzystnej równomiernej strukturze i bardzo dobrym powiązaniu z podłożem. W silnoprądowym katodowym wyładowaniu łukowym otrzymywana jest plazma o dużym stopniu jonizacji. Anodę stanowią ścianki komory próżniowej. Ukierunkowanie i zwiększenie energii kinetycznej jonów następuje poprzez polaryzację ujemnym napięciem podłoża, na które nanoszona jest warstwa twarda. Dzięki zastosowaniu trzech katod stapianych łukiem, możliwe jest nanoszenie warstw twardych na duże części lub większą liczbę mniejszych elementów osadzonych na stole obrotowym. Stół ten posiada mechanizm umożliwiający planetarny obrót narzędzi, co zapewnia naniesienie równomiernych warstw na powierzchnie i krawędzie, nawet przy złożonym kształcie narzędzia. Urządzenie takie umożliwia uzyskiwanie wysokiej jakości warstw twardych PVD w/w metodą łukowo-plazmową. Konstrukcja urządzenia i aparatura pomiarowa pozwala na wykonywanie zarówno warstw twardych prostych, np. typu TiN, jak i wieloskładnikowych, np. typu (TiAl)N.